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低溫等離子處理英文叫（Plasma Cleaner）又稱，等離子表面改性設(shè)備,電漿清潔機(jī),等離子表面處理機(jī),等離子體表面處理設(shè)備,等離子蝕刻機(jī),等離子清洗器,等離子清洗儀。電漿清洗機(jī).等離子體材料表面改性處理設(shè)備，等離子體表面改性產(chǎn)品。廣泛用于等離子清洗,刻蝕,等離子鍍,等離子涂覆,等離子灰化和表面改性
低溫等離子處理的優(yōu)點(diǎn)：
1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。
2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；
3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時(shí)間和較高表面張力。
4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；
5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。
6. 全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。
7. 處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。
