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等離子廢氣處理器去除污染物的機理：
等離子體化學反應過程中，低溫等離子設備等離子體傳遞的化學能量在反應過程中能量的傳遞大致如下：
(1)電場＋電子→高能電子
(2)高能電子＋分子(或原子)→(受激原子、受激基團、游離基團)活性基團
(3)活性基團＋分子(原子)→生成物+熱
(4)活性基團＋活性基團→生成物+熱
廣泛應用于
▲石化、化工、醫藥、塑膠、印刷等行業產生的各類揮發性有機污染物（VOC）。
▲污水處理廠、垃圾處理廠、公廁、垃圾打包站、泵站、市政、卷煙廠、香精廠、屠宰場等領域產生的各類惡臭、異味氣體等。
▲醫院、餐飲、賓館、娛樂場所、車船、航空候車室等公共場所及辦公室、家庭、轎車、實驗室等產生的甲醛、苯、氨等有毒氣體及微生物、懸浮顆粒物等。
▲大型火力發電廠、水泥廠、鋼鐵廠等產生的二氧化硫、粉塵、油煙等。
▲無菌實驗室、病房、手術室、無塵化工廠等。
