名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進(jìn)入虎易名片小程序，使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù)，服務(wù)費(fèi)用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁下，因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí)，曝光服務(wù)將自動(dòng)失效，并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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單晶硅反滲透水機(jī)_去離子水設(shè)備。單硅晶體超水設(shè)備主要作用是用于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物，這些雜質(zhì)有的是以原子狀態(tài)、離子狀態(tài)、薄膜形式、顆粒形式存在與硅片的表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機(jī)污染包括重金屬鉻、銅、鐵、金等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電;顆粒污染源則包括有機(jī)膠體纖維、微生物、細(xì)菌、塵埃、硅渣等物質(zhì)，這類物質(zhì)都會(huì)在生產(chǎn)過程中造成不同程度的危害，所以現(xiàn)在的半導(dǎo)體器件生產(chǎn)、太陽能電池硅片、多晶硅、單晶硅的生產(chǎn)過程中都需要使用超水進(jìn)行沖洗，整體過程受到的危害降到小。

滲源水企業(yè)生產(chǎn)的單硅晶體超水設(shè)備采用的是國內(nèi)先進(jìn)的科技，并搭配使用國際零部件，加上公司獨(dú)到的管理經(jīng)驗(yàn)理念，生產(chǎn)出滿足于單硅晶體行業(yè)應(yīng)用的量超水設(shè)備。

工藝流程：

原水箱→原水提升泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級高壓泵→一級反滲透→級間水箱→二級高壓泵→中間水箱→EDI提升泵→微孔過濾器→EDI系統(tǒng)→EDI水箱→拋光混床→用水點(diǎn)（≥18.2MΩ.CM）

設(shè)備性能：

1.

產(chǎn)品推薦
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