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采用大型平面靶技術，可以在玻璃上面鍍制單質金屬膜、復合膜、電磁屏蔽膜、ITO膜，可以根據需要配置多個真空室，每個真空室根據需要配置不同的靶材，室與室之間采用獨立的真空抽氣系統，可以隨意調節各個真空室的氣體參數，鍍制不同的膜層，可以滿足工業化連續生產的需要。廣泛應用于玻璃、PMMA、電子屏蔽等各種鍍膜領域。
技術參數：
鍍膜產品較大尺寸：1200*2400等規格，可根據客戶的具體需求設計而設計制造。
夾具方式：連續式平面移動方式。
各個機型均可選擇手動、自動控制系統。
