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設備特點：
●采用BILON隱藏式恒溫方法，溫度均勻性可達到±0.1
●低溫反應浴采用BILON溫控系統(tǒng)，大屏幕液晶顯示， XMT模擬數字PID自動控制系統(tǒng)。
●循環(huán)系統(tǒng)具有過濾功能，防止雜物進入循環(huán)系統(tǒng)，更好的了設備的使用壽命。
●全封閉壓縮機組制冷,制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流多重保護裝置。
●循環(huán)泵可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場。
●槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗。
●內膽為304不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。
●低溫反應浴采用圓桶式內膽,攪拌更加均勻無死角,無盤管設計，可以充分利用槽內實驗空間
●備有下放液口方便更換介質。
可選配功能
●可選配第二溫度傳感器，以第二恒溫場溫度為目標溫度，起停制冷或加熱功能。
●可選配高溫制冷功能 ，在高溫時可以進行快速降溫 打破傳統(tǒng)的高溫到低溫自然冷卻的模式。
●低溫反應浴可選配通訊功能，USB 或者485接口 與計算機進行連接。
A型為盤管型 B 型及其他型號為標準型（板換及液晶型）
5L技術參數：
型號 溫度范圍(℃) 溫度波動度(℃) 液槽容積(L) 較大流量（L/M） 循環(huán)方式 開口尺寸(cm) 內膽尺寸(cm) 加熱功率(W) 制冷量20℃/w 較高揚程（M）
BILON-W-501A －5～95 ±0.1 5 11 內外雙循環(huán) ∮19 ∮20×20 1200 600 1．5
BILON-W-501B
BILON-W-502A －10～95 ±0.1 5 11 內外雙循環(huán) ∮19 ∮20×20 1200 600 1．5
BILON-W-502B
