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基于APM（NH4OH:H2O2:H2O）的化學材料在微粒去除方面仍占主宰地位，但如果沒有兆頻超聲波強化，其作用就不是很有效?；诔鮎CA（HPM：HCl:H2O2:H2O）配方的去除金屬的化學材料差不多都放棄了。與潔凈得多的抗蝕劑和化學材料結合在一起的創新化學是在這一領域成功的關鍵。此外，幾何圖形非常密集的器件制造的污染控制也推動了各種創新技術的研發，例如包括超臨界CO2（SCCO2）清洗。隨著微粒和金屬污染的數量級逐漸減小，以及對這方面的污染控制非常有效，現在更多注意的是有機污染和表面狀態相關問題。用簡單的燈清洗法可以把有機污染從Si表面除去。此外，應特別注意溶解在水內和氣相的臭氧在控制有機污染中的作用。RCA清洗法：初，人們使用的清洗方法沒有可依據的標準和系統化。1965年，RCA（美國無線電公司）研發了用于硅晶圓清洗的RCA清洗法，并將其應用于RCA元件制作上。該清洗法成為以后多種前后道清洗工藝流程的基礎，以后大多數工廠中使用的清洗工藝基本是基于初的RCA清洗法。
